25+ 常见 DRC/LVS 错误的解决方案，快速定位并修复设计规则违规
多晶硅（Poly）层的线宽不满足最小宽度规则。Poly通常用于MOS管的栅极，线宽直接决定沟道长度。
多晶硅层的密度不满足要求。
P阱宽度不满足最小宽度要求。
Metal2对Via1的包围不满足要求。Metal2需要完全覆盖Via1并留有余量。
两个Via1之间的间距小于最小间距。常见于高密度布线区域。