DRC/LVS/ERC
天线效应规则
Antenna Rule
防止金属连线在制造过程中积累电荷损伤栅氧化层的设计规则。
详细解释
天线效应(Antenna Effect)发生在等离子刻蚀工艺中:长金属线像天线一样收集电荷,如果只连接到MOS栅极(没有到衬底的放电通路),电荷积累产生的电压可能击穿薄栅氧化层。天线规则限制金属线面积与栅面积的比值。
工作原理
等离子刻蚀时,金属线通过离子轰击积累电荷。如果金属线面积/栅面积 > 阈值(通常200-1000),电荷积累的电压超过栅氧击穿电压。解决方法:1)跳线到更高层金属(面积比重新计算);2)加保护二极管提供放电通路。
版图设计要点
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长走线分段用不同金属层;2. 连接到栅极的金属面积不能太大;3. 加反偏二极管(P+/Nwell或N+/Psub)在栅极附近;4. Calibre PERC可检查天线效应;5. 工艺层的天线规则不同,要查PDK。
典型用途
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等离子刻蚀工艺中的栅氧保护
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长金属线连接MOS栅极时的防护
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I/O端口ESD防护
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先进工艺可靠性保证
中英对照
天线效应规则
Antenna Rule